原位樣品桿系列產(chǎn)品在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，研究人員可以利用這些設(shè)備進(jìn)行材料結(jié)構(gòu)、相變、生長過程、電化學(xué)反應(yīng)等方面的原位觀察，在材料性能、催化、電化學(xué)，納米技術(shù)和材料合成等許多領(lǐng)域都具有廣泛的應(yīng)用。

原位樣品桿系列產(chǎn)品選型 

01 Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿

Lightning Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿是 DENSsolutions 全新升級(jí)創(chuàng)新的原位解決方案，可以在冷卻或加熱樣品的同時(shí)，對(duì)其施加可控的電學(xué)刺激，并以原子級(jí)分辨率在透射電鏡下觀察樣品的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)過程。

主要性能參數(shù)

1.系統(tǒng)操控模式：冷凍&加電，加熱&加電

2.可運(yùn)行的溫度范圍：≤ -160 ℃ - 800 ℃

3.冷凍方式：外置液氮罐

4.卻和穩(wěn)定時(shí)間：≤ 60 min

5.分辨率：≤ 1 ?（取決于透射電子顯微鏡配置）

6.可達(dá)到的電流范圍：1 pA - 100 mA

02 Lightning TEM 原位熱電樣品桿

Lightning 原位熱電樣品桿可在精確控制加電和加熱環(huán)境的同時(shí)觀察樣品變化的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)過程。Lightning 能夠在進(jìn)行熱學(xué)研究的同時(shí)，在 pA 電流靈敏度下進(jìn)行 I-V 測試，其搭配的 Nano-Chip 芯片能在 900 ℃ 高溫下同時(shí)實(shí)現(xiàn)高于 300 kV/cm 的電場，芯片擁有多種配置，能夠滿足不同的實(shí)驗(yàn)要求，同時(shí)保持 TEM 的原子級(jí)分辨率成像能力。

主要性能參數(shù)

1.溫度范圍：RT - 1,300 °C

2.可達(dá)到的電場范圍：≥ 300 kV/cm at RT/900 °C

3.可達(dá)到的電流范圍：1 pA - 100 mA

4.可達(dá)到的分辨率：≤ 60 pm

5.分辨率：≤ 1 ?（取決于透射電子顯微鏡配置）

6.漂移率：≤ 0.5 nm/min  

03 Climate TEM 原位氣相加熱樣品桿

Climate 原位氣相加熱樣品桿可在在氣氛環(huán)境下同時(shí)觀察樣品在加熱時(shí)的狀態(tài)變化，能夠在 2 bar 的氣體環(huán)境中進(jìn)行達(dá) 1000 ℃ 的高溫實(shí)驗(yàn)，并保持 TEM 的原子分辨率，與 DENS 專有的氣體分析儀集成組合使用，可進(jìn)行反應(yīng)產(chǎn)物分析，是當(dāng)前市場上少有的支持結(jié)構(gòu)和化學(xué)信息動(dòng)態(tài)關(guān)聯(lián)的原位系統(tǒng)。

同時(shí)為了滿足客戶研究蒸汽類反應(yīng)物對(duì)材料的影響的實(shí)驗(yàn)要求，我們設(shè)計(jì)了蒸汽發(fā)生器，能夠單獨(dú)地將蒸氣添加到任何氣體混合物中，并擁有獨(dú)立控制蒸汽參數(shù)的能力，便于開展相對(duì)應(yīng)的研究，為原位實(shí)驗(yàn)中提供實(shí)驗(yàn)自由度。

主要性能參數(shù)

1.加熱范圍：RT - 1,000 °C

2.溫度穩(wěn)定性：≤ ± 0.01 °C

3.分辨率：≤ 100 pm（取決于透射電子顯微鏡配置）

4.漂移率：≤ 0.5 nm/min

5.氣體輸入管線：3

6.氣體流量范圍（標(biāo)準(zhǔn)化）：0, 0.01-1 ml / min

04 Stream TEM 原位液相加熱/加電樣品桿

Stream 原位液相加熱/加電系統(tǒng)為材料科學(xué)、化學(xué)和生物學(xué)中各類研究提供了全新的觀察視野。其設(shè)計(jì)的 Nano-Cell 芯片使其對(duì)樣品加熱或加電時(shí)可獨(dú)立控制流速和液體厚度。

同時(shí)全新升級(jí)可集合組裝的液體供應(yīng)系統(tǒng) (LSS) ，引入了精準(zhǔn)控制和可重復(fù)使用的惰性氣體吹掃能力。通過吹掃，可以迅速去除樣品中多余的液體，從而實(shí)現(xiàn)高分辨成像、有價(jià)值的元素分析和電子衍射。并且液體供應(yīng)系統(tǒng) (LSS)能夠主動(dòng)測量液體流量，便于比較不同的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。此外，這意味著可以很容易地發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)中潛在的堵塞，并迅速采取行動(dòng)，能夠高效和有效地利用 TEM 機(jī)時(shí)。這些設(shè)計(jì)為原位液相實(shí)驗(yàn)的原子級(jí)分辨像和高質(zhì)量的 EDS、EELS 結(jié)果帶來了新的可能性。

主要性能參數(shù)

1.溫度范圍：RT - 100 °C

2.液體模式：靜態(tài)液體、流動(dòng)液體

3.液體流量測量：可測量，通過入口液體流量計(jì)

4.液體厚度控制：可控制，通過入口和出口液體壓力控制

5.可達(dá)到的分辨率 ：≤ 3 ? （取決于透射電子顯微鏡配置）

6.可達(dá)到的電場范圍：1 pA - 100 mA

05 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿

Wildfire 原位加熱樣品桿旨在探索材料在高溫下的反應(yīng)和狀態(tài)變化而設(shè)計(jì)，其穩(wěn)定性超越了市場上大部分的同類產(chǎn)品，溫度范圍高可達(dá) 1300 ℃，并在所有的方向上保證優(yōu)異的溫度控制性和樣品穩(wěn)定性，確保了在高溫下觀察樣品動(dòng)態(tài)變化過程，且 TEM 保持較高的分辨率和分析性能。

Nano Chip 芯片和四點(diǎn)探針法可快速反饋溫度變化情況，從而實(shí)現(xiàn)即時(shí)穩(wěn)定和精確的溫度控制，避免出行加熱不均勻或熱反饋不及時(shí)的問題。對(duì)于需要進(jìn)行高溫下三維重構(gòu)研究的客戶，可選擇配備了 α 傾轉(zhuǎn)角高達(dá) 70° 的樣品桿，以便進(jìn)行多方位的研究。

主要性能參數(shù)

1.加熱控制：四探針法

2.溫度范圍：RT - 1,300 °C

3.溫度均勻性：≥ 99.5 %

4.分辨率：≤ 60 pm（取決于透射電子顯微鏡配置）

5.漂移率：≤ 0.5 nm/min

6.視野范圍：850 µm2

DENS 軟件系統(tǒng)：Impulse 集成軟件

Impulse 軟件讓研究人員可以控制實(shí)驗(yàn)條件，只需在電腦上設(shè)置好所需的原位觀測實(shí)驗(yàn)條件，Impulse 將完成剩下的工作。在原位 TEM 實(shí)驗(yàn)期間，軟件將根據(jù)設(shè)置好的條件進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證過程，而您只需專注于實(shí)驗(yàn)結(jié)果，同時(shí)軟件上可以存儲(chǔ)您的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，以便重現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程。

軟件特征和優(yōu)勢：

01.智能自動(dòng)化：在實(shí)驗(yàn)過程中，您可以專注于其他事情，而智能自動(dòng)化會(huì)跟蹤測量結(jié)果并確保滿足所設(shè)置的樣品條件。

02.靈活的數(shù)據(jù)儀表板：Impulse 在排列和調(diào)整圖表大小方面為您提供了極大的靈活性，可輕松掌握任何數(shù)據(jù)細(xì)節(jié)。

03.數(shù)據(jù)整合：軟件支持將您的原位環(huán)境條件實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與其他數(shù)據(jù)同步，并在幾秒鐘內(nèi)為您的相機(jī)和探測器圖像提供環(huán)境條件注釋。

04.實(shí)驗(yàn)自由：Impulse 軟件支持您使用自己創(chuàng)建的 Python 腳本進(jìn)行實(shí)驗(yàn)控制。您可以選擇創(chuàng)建自己的腳本，或者使用我們的預(yù)制腳本，甚至可以在線訪問數(shù)千個(gè) Python 模塊。這種實(shí)驗(yàn)自由將使您能夠擴(kuò)展研究范圍并開展您的創(chuàng)造性實(shí)驗(yàn)控制。

全新升級(jí)的 FIB 樣品臺(tái)

DENSsolutions 現(xiàn)在推出了第三代 FIB 制樣樣品臺(tái)，此設(shè)備可以幫助您更簡單、更安全、更快捷地制備薄片樣品，且適配 DENS 樣品桿芯片。

TEM 樣品制樣設(shè)備

Technoorg Linda 的主要產(chǎn)品包括離子研磨儀、離子減薄儀、離子精修儀和樣品制備相關(guān)的配件和耗材。其產(chǎn)品可配備了超高能離子槍和低能離子槍，通過控制離子束的能量和角度，可對(duì)樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和拋光。Technoorg Linda 系列離子束樣品制備儀器是先進(jìn)的樣品制備工具之一，廣泛應(yīng)用于電子顯微鏡、X 射線衍射、能譜分析和納米技術(shù)等領(lǐng)域。

Unimill 離子減薄儀：用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動(dòng)離子束減薄系統(tǒng)

Gentle Mill 離子精修儀：用于制備高質(zhì)量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站